拉絲模具的最頻粒徑
2022-03-14 來源: 作者:河間市四通模具有限公司 瀏覽次數(shù):634
拉絲模具的最頻粒徑:
是頻率分布曲線的最高點對應(yīng)的粒徑值。設(shè)想這是一般的正態(tài)分布或高斯分布,則平均值,中值和最頻值將恰好處在同一位置。但是,如果這種分布是雙峰分布,則平均直徑幾乎恰恰在這兩個峰的中間;甚至實際上并不存在具有該粒度的顆粒。中值直徑靠近兩個分布中較高的那個分布,因為這是把分布精確地分成兩等份的點。最頻值將位于最高曲線頂部對于的粒度。由此可見,平均值、中值和最頻值有時是相同的,有時是不同的,這取決于樣品粒度的分布的形態(tài)。
拉絲模具晶體取向測定:
所謂晶體取向測定,就是確定晶體的晶體學(xué)取向與試樣的外觀坐標(biāo)之間的位向關(guān)系。單晶體的勞厄珩射花樣是由許多珩射斑點按一定的排列規(guī)律組成的,珩射斑點的位置是由晶體取向決定的。因此,可以通過分析勞厄珩射花樣來測定晶體的取向。
是頻率分布曲線的最高點對應(yīng)的粒徑值。設(shè)想這是一般的正態(tài)分布或高斯分布,則平均值,中值和最頻值將恰好處在同一位置。但是,如果這種分布是雙峰分布,則平均直徑幾乎恰恰在這兩個峰的中間;甚至實際上并不存在具有該粒度的顆粒。中值直徑靠近兩個分布中較高的那個分布,因為這是把分布精確地分成兩等份的點。最頻值將位于最高曲線頂部對于的粒度。由此可見,平均值、中值和最頻值有時是相同的,有時是不同的,這取決于樣品粒度的分布的形態(tài)。
所謂晶體取向測定,就是確定晶體的晶體學(xué)取向與試樣的外觀坐標(biāo)之間的位向關(guān)系。單晶體的勞厄珩射花樣是由許多珩射斑點按一定的排列規(guī)律組成的,珩射斑點的位置是由晶體取向決定的。因此,可以通過分析勞厄珩射花樣來測定晶體的取向。